中微公司:半导体设备行业国产替代“领头羊“

砥砺十五年,公司自主研发实现国产替代,目前已成为刻蚀设备和MOCVD设备行业国产领航者。公司中国为基地、面向全球高端半导体微观加工设备市场,主要从事等离子体刻蚀设备(CCP、ICP)、深硅刻蚀设备(TSV)和MOCVD设备的研发、设计、生产和销售。2018年度,公司经营业绩保持快速增长,营业收入为16.39亿元,同比增长68.7%,净利润为0.91亿元,同比增长203.6%。目前,公司等离子体刻蚀设备已被广泛应用于国际一线客户从65纳米到5纳米的集成电路加工制造及先进封装,MOCVD设备也在行业领先客户的生产线上大规模投入量产。

    政策支持、产业转移、下游需求旺盛和国产化进程加速带来巨大的发展机遇。在政策扶持和产业基金的引导下,全球半导体产业正在加速向中国转移,中国的半导体行业发展和国产化进程加速,2018年末,我国半导体设备行业市场空间为128亿美元左右,同比增长56.1%,保持了快速增长的趋势。其中,我国刻蚀设备的市场空间在212亿元左右,MOCVD设备的市场空间在19.2亿元左右。政策和产业基金支持、下游需求旺盛和国产化率提升带动了刻蚀设备市场空间的增加,而LED产品在照明行业的持续性渗透和在显示行业的替代性增长,为MOCVD设备行业提供了增量空间。

    技术、产品、客户三位一体构筑公司核心竞争力。技术方面,公司研发实力突出,承担了多项国家科技重大专项,拥有一批经验丰富的国际化技术专家和专业人才,目前已获授权专利951项,其中发明专利800项,拥有丰富的技术储备。产品方面,公司产品性能突出,刻蚀设备和MOCVD设备已达到国际先进水平甚至是优于国际水平,并且产品覆盖不同的下游半导体应用市场,可以较好的应对下游投资波动过大对公司业绩带来的影响。客户方面,公司在VLSIResearch2011年度全球芯片设备“客户满意度”调查多项排名中位居前列,产品已成功进入了海内外半导体制造企业,形成了较强的客户资源优势。

    刻蚀设备和MOCVD设备双核驱动+外延式成长途径,保障公司未来增长空间。受益于未来市场空间的增加和国产进口替代率的提升,公司刻蚀设备和MOCVD设备业绩将会快速增长。2018年,公司刻蚀设备国内市占率为3.2%,相对2017年,市场份额提升1.9%,保持了稳步增长的态势,公司MOCVD设备国内市占率为43.30%,相对2017年,市场份额提升17.76%,增长十分迅速。在现有业务增长的同时,根据公司的发展规划战略,公司正在研发的设备可应用于先进封装、MEMS、MiniLED和MicroLED等处于快速增长、潜力巨大的新兴领域,以打开未来公司增长空间。

    投资建议:预计2019-2021年,公司营业收入为20.24亿元、26.19亿元、34.76亿元,净利润为1.94亿元、3.29亿元、4.68亿元,对应EPS为0.40元、0.62元、0.87元。根据可比公司法,我们认为中微公司的PE(LYR)在170~190X之间,对应市值为154.5~172.7亿元,对应每股价格为28.89~32.28元,以2019年净利润计算的PE为72.23~80.70X。

    风险提示:竞争加剧风险,贸易摩擦风险,补助与税收政策变动风险。