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本周行业观点

    重金购买ASML设备,全力追赶先进制程

    1、上周,日经亚洲评论报道中芯国际已经向ASML购买了一台EUV光刻设备,其光源波长为13nm,价值1.2亿美元,可用于7nm及以下工艺。同时长江存储也迎来了自己的第一台光刻设备—ASML的193nm浸润式光刻机,价值7200万美元,用于14nm~20nm工艺。

    光刻机的光源是世界级的工业难题,目前最主流的是深紫外曝光技术(DUV),主流工艺采用的就是ASML的193nm光刻机。业界认为,7nm就是DUV的极限了,下一代技术为极紫外(EUV),其光源下降到了13nm。

    根据四月份芯片制造上公布的最新制造工艺进展,台积电7nm工艺已经成熟并已经量产,但还是依赖于193nm沉浸式光刻和多重pattern,其7nm改进版预计年底前试产,并将首次采用EUV;三星已经完成7nm的新工艺研发,其7nm工艺采用了EUV技术;英特尔虽然推迟了10nm的量产时间,但2014年开始就已经进入了14nm制程。与国际芯片制造先进企业相比,中芯国际还在14nm上苦苦挣扎,尚未量产。我国IC制造企业相继购买ASML的设备体现了各企业在制程上追赶国际先进厂商的决心。

    2、我们建议从两个角度对电子行业进行布局。一是,关注下游产业需求量大、成长性较好的细分板块,不断增长的需求将成为推进产业发展的稳定动力,例如光学元件、显示器件板块,具有较高的成长空间。二是,关注国家重点扶持的细分板块,例如半导体。

    3、风险提示:技术发展及落地不及预期;产业政策向负面变化;估值水平持续回落风险;商誉减值风险。